大型科研儀器賦能產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新 “園企走平臺(tái)” 蕭山區(qū)重點(diǎn)企業(yè)與省高能級(jí)平臺(tái)雙向?qū)咏涣鲿?huì)成功舉辦
超優(yōu)惠!摩方精密推出全新桌面級(jí)高精度3D打印系統(tǒng)microCube T10
隨著5G、人工智能、新能源、生物醫(yī)療等前沿領(lǐng)域的飛速發(fā)展,器件微型化、精密化、集成化趨勢(shì)日益加速。傳統(tǒng)制造方法在面臨日益復(fù)雜的微納結(jié)構(gòu)加工需求時(shí),瓶頸日益凸顯。科研機(jī)構(gòu)和工業(yè)企業(yè)迫切需要一種能夠兼顧高精度、高公差控制能力且操作簡(jiǎn)便、成本可控的制造方案。
摩方精密正式推出全新桌面級(jí)高精度微納3D打印系統(tǒng)——microCube T10。這一創(chuàng)新產(chǎn)品以光學(xué)精度10.8μm和桌面級(jí)設(shè)計(jì),為科研機(jī)構(gòu)、高校實(shí)驗(yàn)室以及中小企業(yè)提供了高性價(jià)比的微納尺度加工解決方案,標(biāo)志著高精度微納制造技術(shù)向普及化邁出重要一步。

01技術(shù)亮點(diǎn)|高精度打印,多材料兼容
microCube T10 可實(shí)現(xiàn)10.8μm高光學(xué)精度,適用于微流控、微型零部件、醫(yī)療器械等科研及工業(yè)研發(fā)應(yīng)用場(chǎng)景。桌面級(jí)機(jī)身設(shè)計(jì)可靈活適配更多作業(yè)環(huán)境,方便研究人員完成高精密加工任務(wù),顯著提升了微納尺度制造的便捷性與效率。
同時(shí),T10所搭載的先進(jìn)離型技術(shù),能夠有效實(shí)現(xiàn)低離型力打印。這一特性對(duì)于制備結(jié)構(gòu)復(fù)雜、精密度要求高的微流控通道至關(guān)重要,確保了成型件的高保真度和完整性。
T10支持光敏樹脂、陶瓷漿料、生物墨水、水凝膠等材料打印,可適配大多數(shù)研發(fā)需求。在生物醫(yī)療領(lǐng)域,T10能夠打印高精度的組織工程支架和微流控芯片,為再生醫(yī)學(xué)、藥物篩選等研究提供工具。陶瓷漿料的兼容性則使制造高耐熱、耐腐蝕的微結(jié)構(gòu)成為可能,在微電子和航空航天領(lǐng)域有廣闊應(yīng)用前景。

02 特點(diǎn)優(yōu)勢(shì)|重新定義用戶體驗(yàn)
T10在確保微納級(jí)打印精度前提下,通過對(duì)用戶實(shí)際需求的深入理解,還集成了多項(xiàng)創(chuàng)新功能:
觸摸屏控制:配置7寸觸摸屏,用戶可以直觀地自定義調(diào)節(jié)打印參數(shù)及打印模式,簡(jiǎn)化了操作流程。
快速固化測(cè)試:支持短時(shí)間測(cè)試參數(shù)組合,打印過程中參數(shù)可調(diào),大大縮短了優(yōu)化工藝的時(shí)間。
支持脫機(jī)工作:無需連接電腦,支持U盤和脫機(jī)打印,增加了設(shè)備使用的靈活性和便利性。
精密刮刀系統(tǒng):可調(diào)刮刀輔助鋪料,能有效消除打印過程中產(chǎn)生的氣泡,提高打印成功率。
省料模式:僅需2-5ml材料即可開啟打印,顯著節(jié)約耗材成本,特別適合實(shí)驗(yàn)性研究和小批量生產(chǎn)。
透氧膜打印模式:可降低離型力,適配水凝膠打印,顯著提高功能性材料的打印成功率。

03 應(yīng)用前景|精準(zhǔn)制造,普及未來
T10的推出,是摩方精密踐行“技術(shù)普惠化”理念的戰(zhàn)略性一步:通過大幅降低設(shè)備購(gòu)置門檻和使用成本,將此前僅能被少數(shù)頂尖實(shí)驗(yàn)室所用的微納加工能力,帶入更廣泛的科研院所、企業(yè)研發(fā)中心乃至初創(chuàng)團(tuán)隊(duì)。
隨著航空航天、精準(zhǔn)醫(yī)療、精密電子等產(chǎn)業(yè)對(duì)器件微型化、功能集成化需求的爆發(fā)式增長(zhǎng),T10這類桌面化、智能化的高精度3D打印設(shè)備,將加速新原理的驗(yàn)證,為高精密定制化器件研發(fā)生產(chǎn)提供經(jīng)濟(jì)、靈活的解決方案。
未來,摩方精密將以持續(xù)的原創(chuàng)技術(shù)攻關(guān)與產(chǎn)品創(chuàng)新,全力鑄就“從樣品到產(chǎn)品”的關(guān)鍵賦能能力,以此助力中國(guó)制造業(yè)構(gòu)建核心競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì),在全球精密制造舞臺(tái)上貢獻(xiàn)中國(guó)智造方案。
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