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CY- MIOP500 高真空多弧離子鍍膜儀

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高真空多弧離子鍍膜儀

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鄭州成越科學(xué)儀器有限公司位于鄭州市開發(fā)區(qū),是一家專業(yè)從事材料制備設(shè)備研發(fā)、生產(chǎn)和銷售為一體的高科技公司。重點專注于CVD石墨烯制備設(shè)備、熒光粉燒結(jié)設(shè)備、氧化鋯生物陶瓷燒結(jié)、納米材料制備、電池材料制備、陶瓷材料的微波燒結(jié)、稀有金屬的區(qū)域提純等研究發(fā)展方向。

鄭州成越科學(xué)儀器有限公司的研發(fā)團隊?wèi){借自身在熱處理技術(shù)方面的專業(yè)知識和豐富的實踐經(jīng)驗,先后研發(fā)出了多款材料制備設(shè)備。主要產(chǎn)品有:微波燒結(jié)爐、真空管式爐、箱式電阻爐、高頻感應(yīng)爐、氧化鋯燒結(jié)爐、熒光粉燒結(jié)爐、晶體退火爐、電池材料燒結(jié)爐、旋轉(zhuǎn)管式爐、立式管式爐、CVD管式爐等;

其他的產(chǎn)品還有:等離子清洗機、真空手套箱、真空干燥箱、環(huán)境模擬測試柜、行星球磨機、高純石英管、99剛玉管、真空法蘭等。

近年來,在社會各界的關(guān)心支持下,公司不斷發(fā)展壯大,與國內(nèi)外多所高校和科研單位建立起了合作關(guān)系;公司還聘請了多位國內(nèi)外重點高校的教授,博導(dǎo)為公司常年的技術(shù)顧問,他們時刻與國內(nèi)外學(xué)術(shù)界保持交流,出國訪問,并親臨一線指導(dǎo)產(chǎn)品的生產(chǎn)和研發(fā),使我公司的產(chǎn)品不斷完善,并緊跟世界研究熱點,推出相關(guān)的新產(chǎn)品。產(chǎn)品遠(yuǎn)銷歐美、日韓等國家,并在國內(nèi)外市場獲得業(yè)界好評。

如果您正在被國貨的產(chǎn)品質(zhì)量所困擾,選擇我們將改變您對國貨的某些觀念;如果您正在為自己的實驗方案的實施而茫然,選擇我們將有專業(yè)的技術(shù)團隊為您量身定做!如果您正在為故障設(shè)備的售后無人理會而發(fā)愁,選擇我們一切的問題將由我們負(fù)責(zé)到底。鄭州成越科學(xué)儀器有限公司的誠信、實力和產(chǎn)品質(zhì)量獲得業(yè)界的認(rèn)可。歡迎各界朋友蒞臨參觀、指導(dǎo)和業(yè)務(wù)洽談。







磁控濺射鍍膜儀,熱蒸發(fā)鍍膜儀,勻膠機旋涂儀,熔煉爐,涂布機,放電等離子燒結(jié)爐,靜電紡絲機,金剛石線切割機,RTP退火爐,晶體生長爐,管式爐,CVD氣相沉積,氣氛爐,馬弗爐,熱解噴涂,等離子清洗機,

產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 價格區(qū)間 1-5萬
應(yīng)用領(lǐng)域 電子/電池,道路/軌道/船舶,鋼鐵/金屬,航空航天,汽車及零部件

CY- MIOP500 為高真空多弧離子鍍膜儀,利用電弧放電將導(dǎo)電材料離子化,利用其繞射性好的優(yōu)勢,產(chǎn)生高能離子并沉積在基底上(特別是泡沫鎳等多孔基底),制備納米級薄膜鍍層或納米顆粒。主要由鍍膜室、多弧靶、多弧電源、脈沖偏壓電源、樣品臺、加熱、真空系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、PLC+觸摸屏半自動控制系統(tǒng)等組成;該設(shè)備主機與控制一體化設(shè)計,操控方便;結(jié)構(gòu)緊湊,占地面積小。該系列設(shè)備廣泛應(yīng)用于高校、科研院所的教學(xué)、科研實驗以及生產(chǎn)型企業(yè)前期探索性實驗及開發(fā)新產(chǎn)品等,深受廣大用戶好評。  

高真空多弧離子鍍膜儀

 

高真空多弧離子鍍膜儀主要用途:

制備多元非晶合金,制備金屬化合物,如氧化物和氮化物薄膜(氧氣或氮氣氛圍),制備納米顆粒催化劑膜,用熱電材料靶材制備熱電效應(yīng)薄膜。  

多弧離子鍍膜儀技術(shù)參數(shù):  

 

1.真空腔室  

Ф500×H420mm,304 上等不銹鋼,前開門結(jié)構(gòu); 腔室加熱溫度:室溫~350±1℃;  

2.真空系統(tǒng)  

復(fù)合分子泵+直聯(lián)旋片泵+高真空閥門組合的高真空系統(tǒng),數(shù)顯復(fù)合真空計;  

3.真空極限  

優(yōu)于 6.0×10-5Pa(空載,經(jīng)烘烤除氣后);  

4.漏率  

設(shè)備升壓率≤0.8Pa/h;  

設(shè)備保壓:停泵 12 小時候后,真空≤10Pa;  

5.抽速  

(空載)從大氣抽至 5.0×10-3Pa≤15min;  

6.基片臺尺寸  

Φ150mm,自轉(zhuǎn)工位 3 個;  

7.基片臺旋轉(zhuǎn)  

基片旋轉(zhuǎn):0~20 轉(zhuǎn)/分鐘;  

8.濺射靶  

DN100 新型磁過濾多弧靶 2 套  

9.脈沖偏壓電源  

-1000V,1 套;  

11.控制方式  

PLC+觸摸屏人機界面半自動控制系統(tǒng);  

12.報警及保護(hù)  

對泵、電極等缺水、過流過壓、斷路等異常情況進(jìn)行報警并執(zhí)行相應(yīng)保護(hù)措施;完善 的邏輯程序互鎖保護(hù)系統(tǒng);  

13.占地  

(主機)L1900×W800×H1900(mm)。  


       



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