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化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器>干法工藝設(shè)備>等離子體刻蝕設(shè)備> RIE-601型反應(yīng)離子刻蝕機

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RIE-601型反應(yīng)離子刻蝕機

具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

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深圳微儀真空技術(shù)有限公司是從事高精度物理氣相沉積設(shè)備及其關(guān)鍵組件研發(fā)和制造的企業(yè)。公司通過了ISO質(zhì)量管理體系認(rèn)證,擁有4項發(fā)明及十余項實用新型設(shè)備 。


公司核心成員畢業(yè)于中科院,清華大學(xué),廈門大學(xué)等科研機構(gòu),公司吸納了有半導(dǎo)體制程技術(shù)與非標(biāo)科學(xué)儀器制造經(jīng)驗的高級人才,聚集了一批專業(yè)從事磁控濺射鍍膜技術(shù),真空系統(tǒng)的研發(fā)與設(shè)備調(diào)試人員,練就了一支在真空領(lǐng)域具有專業(yè)水準(zhǔn)的技術(shù)隊伍。目前擁有自主知識產(chǎn)權(quán)的磁控鍍膜機、電子束鍍膜機、高真空CVD爐、及密封送樣機構(gòu)。已在材料研究領(lǐng)域得到了廣泛的應(yīng)用和一致的好評。


公司主營產(chǎn)品為國產(chǎn)科研級和產(chǎn)業(yè)級磁控濺射設(shè)備,同時為合作伙伴和客戶提供薄膜加工制造、工藝調(diào)試、設(shè)備軟件開發(fā)等服務(wù)。公司致力于提升薄膜沉積設(shè)備的自主可控水平,推進(jìn)產(chǎn)學(xué)研深度融合,將科研成果轉(zhuǎn)化為具有競爭力的產(chǎn)品,努力解決集成電路行業(yè)卡脖子的關(guān)鍵設(shè)備和工藝難題,為半導(dǎo)體、新能源、新材料等領(lǐng)域提供解決方案。

未來的微儀真空,將以磁控濺射鍍膜技術(shù)為核心,深耕發(fā)展未來,堅持以客戶為中心,以價值創(chuàng)造者為本,持續(xù)創(chuàng)新,推動產(chǎn)業(yè)進(jìn)步,創(chuàng)造無限可能。


深圳微儀真空技術(shù)有限公司成立于2024年09月24日,注冊地位于深圳市寶安區(qū)松崗街道東方社區(qū)聯(lián)投東方世家花園1棟二單元2401,法定代表人為曹寧。經(jīng)營范圍包括半導(dǎo)體器件專用設(shè)備制造;真空鍍膜加工;泵及真空設(shè)備制造;專用儀器制造;集成電路設(shè)計;自然科學(xué)研究和試驗發(fā)展;貨物進(jìn)出口;技術(shù)進(jìn)出口;技術(shù)服務(wù)、技術(shù)開發(fā)、技術(shù)咨詢、技術(shù)交流、技術(shù)轉(zhuǎn)讓、技術(shù)推廣;電子專用設(shè)備銷售;人工智能應(yīng)用軟件開發(fā);租賃服務(wù)(不含許可類租賃服務(wù));實驗分析儀器制造;教學(xué)專用儀器制造;機械零件、零部件銷售;個人商務(wù)服務(wù)。(除依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項目外,憑營業(yè)執(zhí)照依法自主開展經(jīng)營活動)

設(shè)備簡介:

RIE-601反應(yīng)離子刻蝕機為我司針對大學(xué)、研究院所、企業(yè)研發(fā)機構(gòu)等用戶的科研及教學(xué)需求定點開發(fā)的刻蝕設(shè)備,同時設(shè)備也支持小批量產(chǎn)品生產(chǎn)。

設(shè)備配備一臺射頻偏壓電源,置于下電極,包含自動匹配器。射頻偏壓電源將工藝氣體離化成等離子態(tài),并使等離子體向下刻蝕樣片。

設(shè)備上蓋配有噴淋式勻氣裝置,將工藝氣體均勻注入到腔體中。


設(shè)備技術(shù)參數(shù):

真空室尺寸:Φ370mm×H300mm

整機尺寸:L1300mm×W900mm×H1500mm

整機重量:650Kg

樣片大小及數(shù)量:φ6英寸樣片1片或散片多片

極限真空度:≤2×10-4Pa

系統(tǒng)漏率:≤5×10-7Pa·L/s

靜態(tài)升壓:系統(tǒng)停泵關(guān)機12小時后,真空度≤5Pa

抽氣速率:系統(tǒng)充干燥N2解除真空,短時暴露大氣后抽氣至5×10-3Pa≤15min

                 系統(tǒng)充干燥N2解除真空,短時暴露大氣后抽氣至9×10-4Pa≤30min

刻蝕不均勻性:≤±5%(φ6英寸范圍內(nèi))


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