廣泛應用于：

半導體制造 （PR, Oxide, Nitride..）
液晶顯示器（ITO, PR, Cell gap…..）
醫(yī)學、生物薄膜或材料
印刷油墨，礦物學，顏料，碳粉
光學薄膜 TiO2, SiO2, Ta2O5…..
半導體化合物
功能薄膜在MEMS /微光機電系統(tǒng) ?
非晶，納米及結晶硅
太陽能光伏材料涂層

技術參數(shù)：
 

產品規(guī)格：
波長范圍： 250到1100 nm
光斑尺寸： 500微米至5毫米
樣品尺寸： 200x200mm
基板尺寸：zui高達50毫米的厚度
測量厚度范圍： 2納米至50微米
測量時間： 2毫秒zui低
精度：優(yōu)于0.5 ％
重復性 ：<1 ?

系統(tǒng)配置:
•型號：SR100R
•探測器:2048像素CCD
•光源:大功率氘和鹵素光源
•光傳遞方式：光纖
•載物臺：黑色鋁合金,可方便調節(jié)樣品的高度，200mmx200mm大小
•通訊：與計算機的USB
•測量類型：薄膜厚度，反射光譜，折射率
•軟件：TFProbe 2.2
•電源：110 - 240伏交流電/ 50 - 60赫茲
•保修：一年主機及配件

主要特點：
 

易于安裝和容易操作的軟件視窗
*的光學設計，*的系統(tǒng)性能
陣列探測器系統(tǒng)，以確?？焖贉y量
測量薄膜厚度和折射率，zui高達5層
可以收集反射，透射和吸收光譜，以毫秒為單位
能夠用于實時或在線厚度，折射率監(jiān)測
系統(tǒng)具有全面的光學常數(shù)數(shù)據(jù)庫
*的TFProbe軟件允許用戶使用NK表，有效快速的分析測試樣品。
可升級到中型（ Microspectrophotometer ）系統(tǒng)，開關磁阻電機繪圖系統(tǒng)，多通道測試系統(tǒng)，
直接測量的圖案或功能結構
適用于許多不同類型的襯底上不同厚度測量
各種配件供特殊配置，如運行測量的曲面
二維和三維圖形輸出和良好的用戶數(shù)據(jù)處理界面