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詳細介紹
二手日立SU-8010場發(fā)射電鏡主要用途：
掃描電鏡（SEM）可觀察納米材料、材料斷口的分析、觀察原始表面、觀察區(qū)域細節(jié)、顯微結構分析等。
X射線能譜儀可進行成分的常規(guī)微區(qū)分析：元素定量、定性成分分析，實時微區(qū)成分分析，快速的多元素面掃描和線掃描分布測量。分析范圍Be4~U92。
已廣泛應用于材料科學、金屬材料、陶瓷材料半導體材料、化學材料、醫(yī)藥科學以及生物等領域。
二手日立SU-8010場發(fā)射電鏡產品特點：
1. 低加速電壓成像能力，1kv分辨率可達1.3nm
2. 日立專li的ExB設計，不需噴鍍，可以直接觀測不導電樣品
3. Upper探頭可選擇接受二次電子像或背散射電子像
4. 可以根據樣品類型和觀測要求選擇打開或關閉減速功能
5. 標配有冷指、電子槍內置加熱器，物鏡光闌具有自清潔功能
6. 儀器的烘烤維護及烘烤后的透鏡機械對中均可由用戶自行完成
品牌，生產廠家，制造國家 | 日本日立 |
型號/規(guī)格 | SU8010 |
電鏡類型 | 冷場發(fā)射電鏡 |
簡介 | 場發(fā)射掃描電鏡可用于材料分析和研究，特別是材料斷口分析、微區(qū)成分分析、各種鍍膜表面形貌分析、層厚測量和顯微組織形貌及納米材料分析等。 |
指標參數 | （1）二次電子分辨率：1.0nm(15kV)，1.6nm(1kV) ； （2）加速電壓：≥0.1 ~ 30kV （3）電子束流：100nA，200nA 或20nA （4）放大倍數：優(yōu)于×30～×200000 （5）物鏡光闌：可調，加熱自清潔裝置 （6）樣品臺：三軸；傾斜：≥-3~700 ；旋轉：3600連續(xù) （7）真空系統：真空度：電子槍室高真空：10-7Pa,；提供離子泵用專用UPS；樣品室真空：10-4Pa。 （8）聚光鏡：電磁透鏡會聚系統，束流強度可連續(xù)可調。 （9）電子光學系統 9.1電子槍：場發(fā)射電子槍 9.2電子槍和軸：自動 9.3工作距離：≥1.5mm~30mm 9.4聚焦：自動聚焦或手動聚焦。 9.5減速模式 9.6自動功能：自動聚焦、曝光、消像散 9.7能量過濾器。 （10）探測器及成像系統 高位二次電子探頭和低位二次電子探頭、背散射電子探頭。 （11）全自動離子濺射儀 濺射電流：0~40mA；靶鉑(Pt)或黃金靶 （12）能譜儀 分辨率127eV；探測器探頭 SDD；探頭有效面積：≥60平方毫米；探測元素 Be4--U92；提供全套分析軟件。 |
主要應用 | 場發(fā)射掃描電鏡可用于材料分析和研究，特別是材料斷口分析、微區(qū)成分分析、各種鍍膜表面形貌分析、層厚測量和顯微組織形貌及納米材料分析等。 |
樣品要求 | 樣品類型：無磁性、無揮發(fā)性材料 |
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