XAU是一款一機(jī)多用型光譜儀，應(yīng)用了*的EFP算法和微光聚集技術(shù)，既保留了測(cè)厚儀檢測(cè)微小樣品和凹槽的膜厚性能，又可滿足成分分析。被廣泛用于各類產(chǎn)品的質(zhì)量管控、來料檢驗(yàn)和對(duì)生產(chǎn)工藝控制的測(cè)量使用。
搭載微聚焦X射線發(fā)生器和*的光路轉(zhuǎn)換聚焦系統(tǒng)，測(cè)量面積達(dá)0.03mm²
擁有無損變焦檢測(cè)技術(shù)，手動(dòng)變焦功能，可對(duì)各種異形凹槽件進(jìn)行無損檢測(cè)，凹槽深度范圍0-30mm

X熒光光譜分析儀；XAU：（鍍層測(cè)厚-成分分析）

產(chǎn)品類型：能量色散X熒光光譜分析儀

產(chǎn)品名稱：光譜分析儀

產(chǎn)品型號(hào)：XAU

 

產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)：

XAU是一款一機(jī)多用型光譜儀，應(yīng)用了EFP算法和微光聚集技術(shù)，既保留了測(cè)厚儀檢測(cè)微小樣品和凹槽的膜厚性能，又可滿足成分分析。

用于各類產(chǎn)品的質(zhì)量管控、來料檢驗(yàn)和對(duì)生產(chǎn)工藝控制的測(cè)量使用。

 

1）搭載微聚焦X射線發(fā)生器和光路轉(zhuǎn)換聚焦系統(tǒng)，測(cè)量面積達(dá)0.03mm²

2）擁有無損變焦檢測(cè)技術(shù)，手動(dòng)變焦功能，可對(duì)各種異形凹槽件進(jìn)行無損檢測(cè)，凹槽深度范圍0-30mm

3）核心EFP算法，可對(duì)多層多元素，包括同種元素在不同層都可快、準(zhǔn)、穩(wěn)的做出數(shù)據(jù)分析（釹鐵硼磁鐵上Ni/Cu/Ni/FeNdB，準(zhǔn)確檢測(cè)第一層Ni和第三層Ni的厚度）

4）配備高精密微型移動(dòng)滑軌，可實(shí)現(xiàn)多點(diǎn)位、多樣品的準(zhǔn)確位移和同時(shí)檢測(cè)

5）裝配Si-Pin半導(dǎo)體探測(cè)器，分辨率高，測(cè)試速度快，數(shù)據(jù)穩(wěn)定

6）涂鍍層分析范圍：鋰Li（3）- 鈾U（92）

7）成分分析范圍：鋁Al（13）- 鈾U（92）

8）人性化封閉軟件，自動(dòng)判斷故障提示校正及操作步驟，避免誤操作

9）四準(zhǔn)直器可選，標(biāo)配為φ0.3mm，測(cè)量面積可達(dá)0.03mm²

10）配有微光聚集技術(shù)，近測(cè)距光斑擴(kuò)散度小于10%

行業(yè)應(yīng)用：各類精密電子鍍薄金

隨著科技的發(fā)展，越來越多的行業(yè)開始采用鍍金表面處理，用于提升產(chǎn)品的綜合質(zhì)量。

    電鍍金鍍層耐蝕性強(qiáng)，導(dǎo)電性好，易于焊接，耐高溫，并具有一定的耐磨性(如摻有少量其他元素的硬金)，有良好的抗變色能力，同時(shí)金合金鍍層有多種色調(diào)，在銀上鍍金可防止變色。

并且鍍層的延展性好，易拋光，故常用作裝飾性鍍層，如鍍首飾、鐘表零件、藝術(shù)品等；也廣泛應(yīng)用于精密儀器儀表、印刷板、集成電路、電子管殼、電接點(diǎn)等要求電參數(shù)性能長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定的零件電鍍，但由于金的價(jià)格昂貴，應(yīng)用受到一定限制。故此鍍金產(chǎn)品對(duì)于鍍層的管控較為的嚴(yán)格，然而由于鍍層極薄，能量弱，穩(wěn)定性差，想要良好的管控成本及產(chǎn)品質(zhì)量，就需要一臺(tái)性能*的光譜儀進(jìn)行檢測(cè)分析。

XAU可滿足精密電子類客戶對(duì)于薄金納米級(jí)厚度的管控，實(shí)現(xiàn)檢測(cè)同一個(gè)點(diǎn)的薄金厚度，極差穩(wěn)定在3-4個(gè)納米。

技術(shù)參數(shù)：

項(xiàng)目	描述
涂鍍層分析	可同時(shí)分析23個(gè)鍍層，24種元素，不同層有相同元素也可分析，可檢測(cè)Li（3）- U（92）涂鍍層90種元素
成分分析	用于地礦、合金及貴金屬等物質(zhì)中Al（13）-U（92）的80種元素成分分析
EFP算法	標(biāo)配
軟件操作	人性化封閉軟件，自動(dòng)判斷故障提示校正及操作步驟，避免誤操作
分析時(shí)間	5-300秒
探測(cè)器	Si-Pin半導(dǎo)體探測(cè)器
X射線裝置	微聚焦射線管
準(zhǔn)直器	Φ0.5mm； Φ0.3mm； Φ0.2mm； □0.1*0.3mm； 四準(zhǔn)直器可選，Φ0.3mm為標(biāo)配（也可另外定制）
微光聚焦技術(shù)	近測(cè)距光斑擴(kuò)散度 10%
濾光片	一種濾光片
測(cè)量距離	具有距離補(bǔ)償功能，可改變測(cè)量距離測(cè)量凹凸異形樣品，變焦距離可達(dá)0-30mm
樣品觀測(cè)	1/2.7”彩色CCD，變焦功能
對(duì)焦方式	高敏感鏡頭，手動(dòng)對(duì)焦
放大倍數(shù)	光學(xué)38-46X，數(shù)字放大40-200倍
儀器尺寸	470mm*550mm*480mm
樣品腔高度	210mm
樣品臺(tái)移動(dòng)	高精密XY手動(dòng)滑軌
可移動(dòng)范圍	50mm*50mm
儀器重量	45KG
其他附件	電腦一套、打印機(jī)、附件箱、十二元素片、電鍍液測(cè)量杯（選配）、標(biāo)準(zhǔn)片（選配）
X射線標(biāo)準(zhǔn)	DIN ISO 3497、DIN 50987和ASTM B 568