納米壓印技術(shù)咨詢 參考價(jià)：面議
天仁微納技術(shù)團(tuán)隊(duì)具有20多年的納米壓印及配套的半導(dǎo)體加工經(jīng)驗(yàn)，可以為客戶提供各種納米壓印技術(shù)咨詢服務(wù)。
納米壓印工藝開發(fā) 參考價(jià)：面議
天仁微納可以根據(jù)客戶的產(chǎn)品需求，提供納米壓印工藝開發(fā)服務(wù)。配套天仁微納的設(shè)備及材料，為客戶提供全套解決方案。
GL-ASL納米壓印材料/納米壓印抗粘處理 參考價(jià)：面議
天仁微納自主研發(fā)、生產(chǎn)及銷售GL-ASL納米壓印抗粘處理，用來減少子模具復(fù)制材料和原始模具的粘度，有利于脫模，增加對原始模具的保護(hù)。
納米壓印膠 參考價(jià)：面議
針對納米壓印膠需求，天仁微納可以為客戶推薦、對接國內(nèi)外多種壓印膠廠商，并提供工藝咨詢服務(wù)。
標(biāo)準(zhǔn)壓印模具 參考價(jià)：面議
標(biāo)準(zhǔn)壓印模具天仁微納還提供一些帶有納米孔、納米柱、納米線條等標(biāo)準(zhǔn)結(jié)構(gòu)的標(biāo)準(zhǔn)模具。如有需求，請聯(lián)系我們咨詢。
UniCoater桌面型旋涂勻膠設(shè)備 參考價(jià)：面議
UniCoater桌面型旋涂勻膠設(shè)備是一種桌面型旋涂勻膠設(shè)備。可旋涂8英寸或者6英寸方片。
GL Plasma等離子體清洗設(shè)備 參考價(jià)：面議
? GL Plasma等離子體清洗設(shè)備數(shù)適用于大300mm直徑以下晶圓或者330×400mm基材（軟工作模具基材）。
150mm&300mm 全自動(dòng)納米壓印光刻預(yù)處理設(shè)備 參考價(jià)：面議
GL150 PreNIL & GL300 PreNIL，150mm&300mm 全自動(dòng)納米壓印光刻預(yù)處理設(shè)備，Cassette to cassette機(jī)械手自動(dòng)...
GL SR300 300mm步進(jìn)式納米壓印光刻/拼版設(shè)備 參考價(jià)：面議
GL SR300 300mm步進(jìn)式納米壓印光刻/拼版設(shè)備是一種步進(jìn)式紫外納米壓印設(shè)備，可以在300mm尺寸基底上加工精度優(yōu)于20納米的三維結(jié)構(gòu)，還可以用于將小面...
GL4 R D研發(fā)型納米壓印光刻設(shè)備 參考價(jià)：面議
GL4 R D研發(fā)型納米壓印光刻設(shè)備是一種專門為大學(xué)、科研院所和企業(yè)產(chǎn)品研發(fā)所設(shè)計(jì)，功能強(qiáng)大的多功能研發(fā)型納米壓印光刻設(shè)備。通過簡單的夾具更換，可以實(shí)現(xiàn)旋涂壓印...
GL8 MLA Gen2工藝紫外納米壓印光刻設(shè)備 參考價(jià)：面議
GL8 MLA Gen2工藝紫外納米壓印光刻設(shè)備是一種專門為晶圓級光學(xué)加工（WLO-Wafer Level Optics）開發(fā)的全幅紫外納米壓印設(shè)備，可在200...
GL8 CLIV Gen2高精度紫外納米壓印光刻設(shè)備 參考價(jià)：面議
GL8 CLIV Gen2高精度紫外納米壓印光刻設(shè)備是天仁微納新型全幅高精度紫外納米壓印設(shè)備，標(biāo)配天仁微納CLIV（Contact Litho in Vacuu...(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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