本文介紹了株式會(huì)社 INTECS 開(kāi)發(fā)的 UIH-1H 型超高亮度照明裝置。該設(shè)備利用丁達(dá)爾現(xiàn)象,專為精密光學(xué)檢測(cè)設(shè)計(jì)。其核心定位在于 “結(jié)像重視" (成像清晰度),區(qū)別于單純的高亮度照明設(shè)備。UIH-1H 的主要功能是專攻半導(dǎo)體拋光晶圓(Polish Wafer)的 Haze(霧度)檢測(cè),通過(guò)獨(dú)特的光學(xué)系統(tǒng)在晶圓表面投影出3條檢查標(biāo)記,使操作人員能直觀判斷表面微米級(jí)的霧狀缺陷。同時(shí),該設(shè)備也適用于廣泛的 “半導(dǎo)體晶圓與掩膜玻璃專用" 場(chǎng)景,可用于檢查表面異物、傷痕及內(nèi)部氣泡。文章詳細(xì)列出了其 15V 150W 的光源規(guī)格,并強(qiáng)調(diào)了其特的有的3分鐘強(qiáng)制冷卻關(guān)機(jī)流程,以確保設(shè)備在高潔凈度工業(yè)環(huán)境下的穩(wěn)定性和 longevity。

1. 設(shè)備概述
UIH-1H 型超高亮度照明裝置(UIH Series)由株式會(huì)社 INTECS 開(kāi)發(fā)。該設(shè)備利用丁達(dá)爾現(xiàn)象(Tyndall Phenomenon),通過(guò)高亮度光線照射,使微小的異物、氣泡或傷痕產(chǎn)生光散射。
與同系列的 UIH-1C 型號(hào)不同,UIH-1H 在設(shè)計(jì)上側(cè)重于成像清晰度(結(jié)像重視),而非單純的高亮度。
2. 核心用途與檢測(cè)原理
核心用途:該設(shè)備專為拋光晶圓(Polish Wafer)的 Haze(霧度/濁度)檢測(cè)而設(shè)計(jì)。
光學(xué)特性:UIH-1H 能夠在照射面上投影出 3 條特定的檢查標(biāo)記。這些標(biāo)記有助于操作人員清晰地觀察晶圓表面的霧狀缺陷(Haze)。
適用對(duì)象:主要針對(duì)半導(dǎo)體晶圓,同時(shí)也適用于掩膜玻璃(Mask Glass)、光學(xué)部件及鏡頭等精密部件的表面檢查。
3. 技術(shù)規(guī)格
| 項(xiàng)目 | 規(guī)格參數(shù) |
|---|
| 光源規(guī)格 | 15V 150W 專用鹵素?zé)?/span> |
| 設(shè)計(jì)特點(diǎn) | 結(jié)像重視型 (Imaging Emphasis) |
| 燈泡壽命 | 最高亮度下約 50 小時(shí) / 半亮度下約 800 小時(shí) |
| 電源要求 | AC100V |
4. 操作規(guī)范(重點(diǎn))