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上海人和科學儀器有限公司

高壓均質(zhì)—微射流兩用均質(zhì)機在MLCC行業(yè)的應用

時間:2019-2-15 閱讀:6265
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隨著電子信息技術(shù)的快速發(fā)展,對作為電子信息材料重要組成部分的電極漿料提出新的、更高的要求。MLCC作為主要的陶瓷電容,成為被動電子元件中使用為廣泛、用途廣、使用量大的電子元件。

片式多層陶瓷電容器(MLCC)是由印好電極(內(nèi)電極)的陶瓷介質(zhì)膜片以錯位的方式疊合起來,經(jīng)過一次性高溫燒結(jié)形成陶瓷芯片,再在芯片的兩端封上金屬層(外電極),從而形成一個類似獨石的結(jié)構(gòu)體。

MLCC 生產(chǎn)過程中,首先需調(diào)漿,即將陶瓷粉和粘合劑、溶劑等按一定比例分散研磨處理,形成陶瓷漿料。質(zhì)量良好的陶瓷漿料的制備是制作MLCC的基礎(chǔ)。常用的陶瓷漿料是砂磨機處理后的鈦酸鋇漿料,但是采用砂磨機,清洗不方便,且產(chǎn)品性能有局限。近年來越來越多的廠家使用高壓均質(zhì)機或微射流均質(zhì)機來處理鈦酸鋇漿料。但因鈦酸鋇顆粒較大,直接用超高壓微射流均質(zhì)機處理,特別容易堵塞。而只采用高壓均質(zhì)機,陶瓷漿料的分散研磨效果達不到上佳。所以我們采用高壓均質(zhì)—微射流兩用均質(zhì)機來處理物料。

一.高壓均質(zhì)—微射流兩用均質(zhì)機介紹:

  1. 高壓均質(zhì)原理

物料通過往復運動的柱塞泵吸入并加壓,在柱塞作用下進入壓力大小可調(diào)節(jié)的閥組中,經(jīng)過特定寬度的限流縫隙(工作區(qū))后,瞬間失壓的物料會產(chǎn)生一個很大的爆破力,以*的流速(1000 1500 /秒)噴出,碰撞在閥組件之一的撞擊環(huán)上,產(chǎn)生了三種效應:空穴效應、撞擊效應、剪切效應,從而達到液體樣品均質(zhì)、粉碎和乳化的效果。

                                                     

2. 微射流原理

微射流高壓均質(zhì)機主要是由分散單元和增壓機構(gòu)組成,分散單元內(nèi)部通常有“Z”型和“Y”型。在增壓機構(gòu)的作用下,高壓狀態(tài)下的樣品在分散單元的狹小縫隙間快速通過。此時流體內(nèi)壓力的急劇下降而形成的超聲速流速,流體內(nèi)的粒子碰撞,空化和湍流,剪切力作用于劈開納米大小的細微分子使流體的成分以*的均質(zhì)的狀態(tài)存在。 

高壓均質(zhì)機核心部分是均質(zhì)閥座、均質(zhì)閥芯和撞擊環(huán)三部分組成;而微射流式高壓均質(zhì)機核心部分是分散單元。

二.高壓均質(zhì)—微射流兩用均質(zhì)機特點:

*設(shè)計高壓均質(zhì)—微射流兩用均質(zhì)機,該設(shè)備分為高壓均質(zhì)機分散單元和超高壓微射流分散單元;首先使用高壓均質(zhì)機分散單元對樣品進行預處理,然后使用超高壓微射流粉碎顆粒,防止堵塞,有效提高工作效率,節(jié)約成本;

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三.實驗過程

1.使用高壓均質(zhì)分散單元

將預處理好的鈦酸鋇漿料或膠水樣品導入進料杯中,開機,等樣品正常出料后,將壓力逐漸上壓至1500bar,然后一次排出全部物料,高壓均質(zhì)分散單元操作結(jié)束。

2. 使用微射流分散單元粉碎

將上一步處理好的樣品導入進料杯中,首先將設(shè)備頻率調(diào)整5-10hz左右,開機,注意觀察壓力變化,逐漸增加壓力至目標壓力稍低壓力,充分循環(huán)若干次,加壓至目標壓力,反復均質(zhì)若干次,均質(zhì)結(jié)束,直接排出物料收集。

3. 分別清洗兩個分散單元,清洗結(jié)束,實驗完畢    

四、實驗結(jié)果

 

  1. 膠水試驗結(jié)果

由表可以看出,均質(zhì)2遍后,膠水粘度基本不再變化,粘度可以下降35%左右。

 

  1. 漿料試驗結(jié)果

由表可以看出,在均質(zhì)2遍后,漿料的粘度變化不大,粒度和比表面積都呈下降趨勢。

進一步對漿料進行微射流處理2次后,漿料的粘度不再變化。

  1. 產(chǎn)品驗證結(jié)果:

較砂磨處理,經(jīng)均質(zhì)機2+微射2遍處理后,MLCC產(chǎn)品的容量升高。

五、設(shè)備規(guī)格和參數(shù)

 

六、實驗結(jié)論

高壓均質(zhì)—微射流兩用均質(zhì)機對MLCC用膠水和鈦酸鋇漿料都有較好的分散作用,產(chǎn)品的容量也提高。

 

 

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