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瑞士Cytosurge是將原子力系統(tǒng)、微流控系統(tǒng)、細胞培養(yǎng)系統(tǒng)為體的單細胞操作系統(tǒng)。主要功能包括單細胞注射、單細胞提取以及單細胞分離。FluidFM OMNIU...

Moorfield Nanotechnology是英國材料科學域高性能儀器研發(fā)公司，成立二十多年來注于高質(zhì)量的薄膜生長與加工技術(shù)，擁有雄厚的技術(shù)實力，推出的多種...

原子層沉積（Atomic layer deposition）是將氣相前驅(qū)體脈沖交替通入反應(yīng)器，化學吸附在沉積襯底上并反應(yīng)形成沉積膜的種方法，是種可以將物質(zhì)以單原...

Moorfield公司近十年來與曼徹斯大學諾獎技術(shù)團隊緊密合作，推出的PVD薄膜制備系列產(chǎn)品由于其體積小巧、性能越、易于操作更是受到很多科研單位的贊譽。

Moorfield公司近十年來與曼徹斯大學諾獎技術(shù)團隊緊密合作，推出的薄膜磁控濺射系統(tǒng)系列產(chǎn)品由于其體積小巧、性能越、易于操作更是受到很多科研單位的贊譽。

zeroK Nanotech推出的基于低溫銫離子源（Cs+ LoTIS）的新代高精度低溫銫離子源FIB系統(tǒng)——FIB: ZERO（Cs+ LoTIS）和相應(yīng)的離...

激光加熱基座晶體生長爐（LHPG）具有無坩堝、無污染、溫度梯度大、生長速度快、適合生長高熔點的高質(zhì)量晶體等*勢。

微波等離子化學氣相沉積技術(shù)（MPCVD）制造的微波等離子化學氣相沉積系統(tǒng), 通過等離子增加前驅(qū)體的反應(yīng)速率，降低反應(yīng)溫度。適合制備面積大、均勻性好、純度高、結(jié)晶...

多功能高磁控濺射噴金儀—nanoEM是Moorfield Nanotechnology推出的款高精度的磁控濺射噴金儀。

臺式精準氣氛\壓力控制高溫退火系統(tǒng)ANNEAL可用于二維材料以及襯底、樣品在定氛圍中的高精度熱處理，也可用于其他有高精度熱處理要求的方向。

Moorfield公司近十年來與曼徹斯大學諾獎技術(shù)團隊緊密合作，推出的臺式高精度薄膜制備與加工系統(tǒng)系列產(chǎn)品由于其體積小巧、性能越、易于操作更是受到很多科研單位的...

Moorfield臺式二維材料等離子軟刻蝕系統(tǒng)—nanoETCH，采用準確控制技術(shù)，為石墨烯和2D材料的研究提供高精度的加工刻蝕。

Moorfield近推出了臺式高性能多功能PVD薄膜制備系列—nanoPVD，高度集成化的高真空高性能臺式PVD系統(tǒng)。越、高效的性能適用于眾多薄膜的研究工作。

Moorfield與學術(shù)界緊密合作研發(fā)的臺式高性能CVD石墨烯/碳納米管快速制備系列可以用來快速生產(chǎn)高質(zhì)量的石墨烯用于學術(shù)和應(yīng)用研究。

新代高性能激光浮區(qū)法單晶爐可廣泛用于凝聚態(tài)物理、化學、半導體、光學等多種學科域相關(guān)單晶材料制備，尤其適合高飽和蒸汽壓、高熔點材料及高熱導率材料等常規(guī)浮區(qū)法單晶爐...

德國SciDre公司推出的高壓氧氣氛退火爐溫度可達850°C，壓力可達150個大氣壓?？捎糜诟邏壕w生長的料棒前處理。也可用于含氧晶體的高溫退火處理。

德國SciDre 高溫高壓光學浮區(qū)爐能夠提供2200–3000℃以上的生長溫度，晶體生長腔壓力可達300Bar，甚至10-5mBar的高真空。適用于生長各種超導...

日本ADVANCE RIKO公司致力于電弧等離子體沉積系統(tǒng)（APD）用脈沖電弧放電將電導材料離子化，產(chǎn)生高能離子并沉積在基底上，制備納米薄膜鍍層或納米顆粒。

日本 ADVANCE RIKO公司的桌面式超高溫高速退火爐以大功率點聚焦加熱以及超高反射效率可以在10s內(nèi)將15mm×15mm的試樣加熱到1800℃，對SiC以...

脈沖激光沉積、分子束外延薄膜制備系統(tǒng)（NEW）等由美國BlueWave生產(chǎn)，可制備的薄膜包括氮化物、氧化物、多層膜、鉆石、石墨烯、碳納米管、2D材料。Blue ...