設(shè)備原理：

1. 輻射加熱

紅外鍍金聚焦?fàn)t是利用高能量密度的紅外光源作為加熱源的輻射加熱爐。爐體由鋁合金制成，紅外線反射面拋光，鍍金，反高光。同時配置水冷裝置。

2. 紅外線燈

紅外鍍金聚焦?fàn)t是利用高能量密度的紅外光源作為加熱源的輻射加熱爐。爐體由鋁合金制成，紅外線反射面拋光，鍍金，反高光。同時配置水冷裝置。

3. 反射光

反射鏡是用曲率加工以提高反射率。反射鏡有兩種類型，一種是橢圓形的，另一種是拋物線型的，該模型rhl-e和vht-e系列有一個橢圓形反射器和適合的棒狀樣品加熱，和其他模型：rhl-p,RHL PS和RHL PSS系列具有拋物線型反射器和適用于片狀樣品。

設(shè)備特點

1. 高速加熱與冷卻方式

高能量的紅外燈和鍍金反射鏡允許高速加熱到高溫。同時體可配置水冷，增設(shè)氣體冷卻裝置，可實現(xiàn)快速冷卻。

2. 溫度控制

通過紅外鍍金聚焦和溫度控制器的組合使用，可以控制樣品的溫度。此外，冷卻速度和保持在任何溫度下可提供。

3. 清潔加熱

反射鏡是用曲率加工以提高反射率。反射鏡有兩種類型，一種是橢圓形的，另一種是拋物線型的，該模型rhl-e和vht-e系列有一個橢圓形反射器和適合的棒狀樣品加熱，和其他模型：rhl-p,RHL PS和RHL PSS

4. 不同環(huán)境下的加熱與冷卻

北京華測 高真空退火爐加熱/冷卻可用真空、氣氛環(huán)境，低溫（高純度惰性氣體靜態(tài)或流動），操作簡單，使用石英玻璃制成。紅外線可傳送到加熱/冷卻室。

設(shè)備結(jié)構(gòu)：

結(jié)構(gòu):

溫控系統(tǒng)：設(shè)備采用PID溫度控制，同時采用移相觸發(fā)技術(shù)保證試驗溫度，確保±1℃的均勻性，多區(qū)獨立控溫補(bǔ)償邊緣熱損失；

• 根據(jù)設(shè)備上的溫度控制器輸入?yún)?shù)，您也可以簡單輸入溫度程序設(shè)定和外部信號。另外還可以在電腦上顯示熱中的溫度數(shù)據(jù)；

• 自適應(yīng)熱電偶包括JS、K、J、T、E、N、R、S、B、以及L、U、W型；

• 最大可設(shè)定32個程序、256個步驟的程序；
• 30A、60A、120A內(nèi)置了SCR電路，所以范圍很廣。
• 腔體設(shè)計： 石英或碳化硅材質(zhì)，耐高溫且低污染，晶圓通過自動傳輸系統(tǒng)進(jìn)出，減少人為干擾；
• 進(jìn)口干泵： 抽速>120L/min，極限真空度≤4pa，噪音小于 52db；

• 進(jìn)口全量程真空規(guī)：刀口法蘭接口，真空測量范圍 5×10^-7 Pa 到 1atm。

技術(shù)規(guī)格:

產(chǎn)品型號：Huace-800G/1200G/1450G
最大產(chǎn)品尺寸：6 寸晶圓或者最大支持150 x 150mm產(chǎn)品
溫度范圍：室溫 ~ 1250 °C
最高升溫速度：<100 ℃ /s 可編程（此溫度為不含載盤的升溫速度）< 25 ℃ /s（SiC 載盤）
溫度均勻度：±5 °C ≤ 500 ℃ ±1 % > 500 ℃
溫度控制重復(fù)性：±1 °C
溫控方式：快速 PID 溫控