儀廣科技 拼接光學(xué)平臺 參考價：面議
儀廣科技 拼接光學(xué)平臺普通平臺的單個最大尺寸是4.8m×1.5m，有些復(fù)雜的光束路徑通常需要更大的尺寸或者一個大型平臺無法裝入電梯，則可以通過拼接平臺實現(xiàn)。拼接...
儀廣科技 GN系列 無磁光學(xué)平臺 參考價：面議
儀廣科技 GN系列 無磁光學(xué)平臺無磁光學(xué)平臺又稱非磁性光學(xué)平臺，常用于需要支撐高強度磁鐵或保持均勻磁場的應(yīng)用。臺面全部采用非磁性304不銹鋼或316不銹鋼制成。...
儀廣科技 QT系列自平衡氣浮隔振 光學(xué)平臺 參考價：面議
儀廣科技 QT系列自平衡氣浮隔振 光學(xué)平臺光學(xué)平臺臺面采用蜂窩芯光學(xué)臺面，隔振支腿采用氣浮支腿進行支撐。 每個隔振支腿均內(nèi)置一個高強度復(fù)合材料氣囊，通過水平調(diào)節(jié)...
TMC 用剛性聯(lián)軸器拼接光學(xué)平臺 參考價：面議
TMC 用剛性聯(lián)軸器拼接光學(xué)平臺CleanTop光學(xué)頂部可提供多個部分，最大尺寸為1.5米 x 4.8米（5英尺 x 16英尺）。復(fù)雜的光束路徑通常需要更大的尺...
TMC 用于潔凈室的ClassOne 790系列光學(xué)平臺 參考價：面議
TMC 用于潔凈室的ClassOne 790系列光學(xué)平臺我們的790系列、ClassOne? CleanTop?光學(xué)頂部設(shè)計是原始CleanTop的一個擴展項，...
TMC CleanTop光學(xué)平臺性能系列 參考價：面議
TMC CleanTop光學(xué)平臺性能系列全鋼結(jié)構(gòu)。小的芯單元尺寸，高的芯密度鋼到鋼到鋼。熱穩(wěn)定性。
精密光學(xué)隔振平臺 參考價：面議
光學(xué)隔振平臺的側(cè)板不僅僅是蓋子,它們可以增強平臺的總體阻尼性能。我們的光學(xué)平臺使用高阻尼復(fù)合木材作為側(cè)板，以幫助消除側(cè)面的振動。
精密光學(xué)隔振平臺 參考價：面議
精密光學(xué)隔振平臺：光學(xué)隔振平臺具有更高的穩(wěn)定性，尤其適用于小尺寸工作臺，薄型高密度頂部降低了整體浮動質(zhì)心，即使對于上重下輕的有效載荷，也能提供較高的穩(wěn)定性。
TMC主動光學(xué)隔振平臺 參考價：面議
主動光學(xué)隔振平臺TMC STACIS III廣泛應(yīng)用于光學(xué)、電子、精密機械制造、冶金、航天、航空、航海、精密化工和無損檢測等領(lǐng)域以及其他機械行業(yè)的精密試驗儀器、...
光學(xué)隔振平臺LaserTable-Base 參考價：面議
TMC光學(xué)隔振平臺通過結(jié)合壓電致動器和慣性振動傳感器的專有技術(shù)克服了這些限制，可消除而不會放大極低頻振動。LaserTable-Base將這兩項技術(shù)（空氣和ST...
Floor Platform壓電主動振動消除光學(xué)平臺 參考價：面議
Floor Platform壓電主動振動消除光學(xué)平臺TACIS壓電隔振器不受較高、上重下輕有效載荷的影響。沒有重力不穩(wěn)定的危險。安裝在地面平臺（TEMS）上的儀...
CleanBench實驗臺光學(xué)平臺 參考價：面議
CleanBench實驗臺光學(xué)平臺是我們的下一代行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)63系列實驗臺。TMC的隔振實驗臺具有業(yè)界的性能，是各種應(yīng)用選擇，包括AFM、共聚焦顯微鏡、試管受精、膜...
TMC CleanTop光學(xué)平臺研究級784系列 參考價：面議
TMC CleanTop光學(xué)平臺研究級784系列提供*的光學(xué)頂部性能。研究級系列具有業(yè)內(nèi)*性能，它結(jié)合了zui小的單元尺寸、zui高的芯密度、*的CleanTo...
光學(xué)隔振平臺 參考價：面議
TMC光學(xué)隔振平臺 LaserTable-Base的上部氣動部分采用模塊化設(shè)計，可互換。它可以結(jié)合TMC的Gimbal Piston、MaxDamp空氣隔振器或...
TMC784系列研究等級光學(xué)平臺 參考價：面議
TMC784系列研究等級光學(xué)平臺性能上是工業(yè)中的。它具有TMC*的CleanTop設(shè)計：小的核心尺寸，高的核心密度設(shè)計，全鋼結(jié)構(gòu)以及商用高等級結(jié)構(gòu)阻尼。研究等級...(空格分隔,最多3個,單個標(biāo)簽最多10個字符)
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