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深圳市秋山貿(mào)易有限公司

主營產(chǎn)品: 抹茶生產(chǎn)線,粉碎研磨珠,口紅硬度計(jì)

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公司信息

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林經(jīng)理
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13823147203
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深圳市龍崗區(qū)龍崗街道新生社區(qū)新旺路和健云谷2棟B座1002
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www.cnakiyama.com
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FA1X系列微電子與制藥行業(yè)用濕法工藝臭氧發(fā)生裝置
微電子與制藥行業(yè)用濕法工藝臭氧發(fā)生裝置
參考價(jià) 10000
訂貨量 1000
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 型號(hào) FA1X系列
  • 品牌 其他品牌
  • 廠商性質(zhì) 代理商
  • 所在地 深圳市

更新時(shí)間:2025-11-25 10:34:08瀏覽次數(shù):239

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【簡單介紹】
產(chǎn)地類別 進(jìn)口 應(yīng)用領(lǐng)域 綜合
微電子與制藥行業(yè)用濕法工藝臭氧發(fā)生裝置
日本 ROKI TECHNO 的 FA1X 系列是一款“工業(yè)用電解式高耐久型臭氧發(fā)生裝置",主打高純、低維護(hù)、長壽命,專為半導(dǎo)體、面板、制藥等法工藝設(shè)計(jì)。綜合公開信息,其核心特點(diǎn)與技術(shù)參數(shù)如下(如與貴司實(shí)際選型有差異,請(qǐng)以原廠最新規(guī)格書為準(zhǔn)):
1. 電解式原理
去離子水(DI Water)直接電解生成 O?,無需氣源干燥、減壓或 PSA 制氧,避免

微電子與制藥行業(yè)用濕法工藝臭氧發(fā)生裝置

微電子與制藥行業(yè)用濕法工藝臭氧發(fā)生裝置

日本 ROKI TECHNO 的 FA1X 系列是一款“工業(yè)用電解式高耐久型臭氧發(fā)生裝置",主打高純、低維護(hù)、長壽命,專為半導(dǎo)體、面板、制藥等濕法工藝設(shè)計(jì)。綜合公開信息,其核心特點(diǎn)與技術(shù)參數(shù)如下(如與貴司實(shí)際選型有差異,請(qǐng)以原廠最新規(guī)格書為準(zhǔn)):

1. 電解式原理

  • 去離子水(DI Water)直接電解生成 O?,無需氣源干燥、減壓或 PSA 制氧,避免 NOx、顆粒等副產(chǎn)物,臭氧純度高,金屬離子析出極低,適合晶圓清洗、光刻膠去除、CVD 后清洗等對(duì)污染極其敏感的工藝 。

2. 高耐久與低維護(hù)

  • 采用鈦基+陶瓷復(fù)合電極板,表面納米涂層抑制析氧副反應(yīng),電極壽命較傳統(tǒng)電解槽提升約 2 倍;
  • 槽體為全 PTFE 或 PFA 一體注塑,高溫 (≤80 °C) 濃臭氧環(huán)境無滲透、無腐蝕;
  • 內(nèi)置自動(dòng)極性反轉(zhuǎn)與脈沖清洗程序,可防止 Ca/Mg 結(jié)垢,實(shí)現(xiàn) 8 000 h 以上免開蓋維護(hù)周期

3. 性能范圍(FA1X 系列典型值)

  • 臭氧產(chǎn)量:1–10 g/h(FA110 型最大 10 g/h,F(xiàn)A120 型 20 g/h,依此類推);
  • 出口濃度:5–200 mg/L 可調(diào)(以水溶液計(jì),高濃度型最高 250 mg/L);
  • DI Water 流量:1–20 L/min,壓力 0.15–0.4 MPa;
  • 電源:單相 AC 220 V 50/60 Hz,功率 80–300 W;
  • 進(jìn)出接口:3/8″ PFA 管或 ?″ 卡套,可訂制法蘭;
  • 外形:桌面 320 × 220 × 420 mm(FA110),19″ 機(jī)架 4U/5U(FA120 以上)
    。

4. 在線監(jiān)控與安全

  • 標(biāo)配紫外-可見光吸收 (UV-Vis) 型臭氧濃度計(jì),分辨率 0.1 mg/L,誤差 ≤ ±2 %;
  • PLC+7″ 觸控屏,實(shí)時(shí)顯示產(chǎn)量、濃度、槽溫、電導(dǎo)率;支持 RS-485/EtherNet/IP 與主機(jī)臺(tái)通信;
  • 多段報(bào)警:低流量、超溫、電極劣化、O? 泄漏(<0.1 ppm);泄漏時(shí)自動(dòng)停槽并啟動(dòng)催化分解器
    。

5. 典型應(yīng)用

  • 半導(dǎo)體:晶圓清洗、柵氧前清洗、Cu/低-k 兼容清洗、光刻膠剝離;
  • 面板:LCD/OLED 濕法再生、ITO 蝕刻后殘膠去除;
  • 制藥/生物:超純水管網(wǎng)在線消毒、發(fā)酵罐 CIP/SIP;
  • 精密電鍍:取代 H?SO?/H?O? 粗化,實(shí)現(xiàn)低蝕刻速率銅面改性。

6. 選型與擴(kuò)展

  • FA1X-L:低濃度型 (≤30 mg/L),適合大流量漂洗;
  • FA1X-H:高濃度型 (≤250 mg/L),適合局部點(diǎn)膠清洗;
  • 可選雙槽并聯(lián)模塊,實(shí)現(xiàn) 24 h 連續(xù)運(yùn)行(一槽工作,一槽維護(hù)/反洗);
  • 可內(nèi)置 0.1 μm 過濾器 + 超純換熱器,直接對(duì)接 UPW 回路。
綜上,F(xiàn)A1X 系列通過電解純水原位產(chǎn)臭氧,無需氣源、干燥或冷卻水,兼顧高純度、高濃度與長壽命,是微電子與制藥行業(yè)對(duì)金屬離子和顆粒要求嚴(yán)苛場景的理想臭氧源。





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