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深圳市秋山貿(mào)易有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品： 抹茶生產(chǎn)線,粉碎研磨珠,口紅硬度計(jì) |
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13823147203
公司信息
- 聯(lián)系人：
- 林經(jīng)理
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- 地址：
- 深圳市龍崗區(qū)龍崗街道新生社區(qū)新旺路和健云谷2棟B座1002
- 郵編：
- 個(gè)性化：
- www.cnakiyama.com
| 參考價(jià) | ￥ 10000 |
| 訂貨量 | 1000件 |
- 型號(hào) SS-DCRF301
- 品牌 其他品牌
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 所在地 深圳市
更新時(shí)間：2025-11-25 14:47:52瀏覽次數(shù)：261
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| 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 |
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日本 Arios（アリオス）SS-DCRF301 是一臺(tái)「桌面級(jí)、雙陰極、水冷、磁控」小型濺射（Sputter）成膜系統(tǒng)，專為 實(shí)驗(yàn)、試作、多材料交替鍍膜 設(shè)計(jì)，可處理 金屬、合金、氧化物、氮化物 等，目標(biāo)尺寸最大 3 英寸，腔體緊湊但保留 倒濺、傾斜、旋轉(zhuǎn)、加熱 等全功能，適合 大學(xué)、研究所、創(chuàng)業(yè)試作線 在 小批量、多配方、快速切換 場(chǎng)景下使用。
? 1. 系
桌面級(jí)全功能小型濺射系統(tǒng)多成膜裝置
桌面級(jí)全功能小型濺射系統(tǒng)多成膜裝置
日本 Arios（アリオス）SS-DCRF301 是一臺(tái)「桌面級(jí)、雙陰極、水冷、磁控」小型濺射（Sputter）成膜系統(tǒng)，專為 實(shí)驗(yàn)、試作、多材料交替鍍膜 設(shè)計(jì)，可處理 金屬、合金、氧化物、氮化物 等，目標(biāo)尺寸最大 3 英寸，腔體緊湊但保留 倒濺、傾斜、旋轉(zhuǎn)、加熱 等全功能，適合 大學(xué)、研究所、創(chuàng)業(yè)試作線 在 小批量、多配方、快速切換 場(chǎng)景下使用。
? 1. 系統(tǒng)概覽
表格
復(fù)制
項(xiàng)目規(guī)格
型號(hào)SS-DCRF301（DCRF = DC + RF 雙電源）
腔體圓柱不銹鋼 SUS304，內(nèi)徑 ?300 × H 300 mm
真空泵干泵 150 L/min + 分子泵 300 L/s（磁懸?。?/p>
極限真空< 5 × 10?? Pa（24 h 烘烤后）
濺射電源DC 0-500 W + RF 13.56 MHz 0-300 W（自動(dòng)匹配器）
陰極2 × 3 英寸磁控陰極（面對(duì)面或 45° 傾斜可換）
基板臺(tái)?3 英寸，旋轉(zhuǎn) 5-30 rpm，升降 0-50 mm
加熱最高 400 °C（PID 控制，輻射加熱）
水冷陰極、腔壁、靶材全水冷，流量 5 L/min
氣體2 路 MFC（Ar、N?、O? 可選），精度 ±1 % F.S.
控制7 寸觸控 + PLC，可存 100 組 Recipe
尺寸/重量W 700 × D 650 × H 700 mm，約 80 kg
電源AC 200 V 單相 3 kW（含泵、電源、加熱）
? 2. 成膜模式
表格
復(fù)制
模式說明
DC 濺射金屬、合金靶（Cu、Al、Ti、Cr、Ni、Fe、ITO）
RF 濺射氧化物、氮化物靶（Al?O?、SiO?、TiN、ZnO）
反應(yīng)濺射Ar + O?/N? → 氧化物/氮化物膜（TiO?、AlN、SiN）
交替多層雙靶自動(dòng)切換，周期 1 nm – 1 µm 可設(shè)
傾斜濺射基板臺(tái) 0-90° 傾斜，實(shí)現(xiàn) 陰影鍍、納米柱、各向異性
旋轉(zhuǎn)鍍5-30 rpm，保證 ≤ ±2 % 厚度均勻性（3 英寸片）
? 3. 典型工藝參數(shù)（參考）
表格
復(fù)制
工藝靶材功率氣壓速率均勻性
Cu 膜3" Cu 靶DC 200 W0.5 Pa Ar60 nm/min±2 %
Al?O? 膜3" Al?O? 陶瓷靶RF 150 W0.4 Pa Ar+10 % O?12 nm/min±3 %
TiN 膜3" Ti 靶DC 250 W0.3 Pa Ar+20 % N?35 nm/min±2 %
? 4. 控制與自動(dòng)化
7 寸彩色觸控：圖形化流程，一鍵啟動(dòng)
100 組 Recipe：壓力、功率、時(shí)間、旋轉(zhuǎn)、氣體比例全可編程
自動(dòng)匹配器：RF 反射功率 < 2 W，無需手動(dòng)調(diào)諧
實(shí)時(shí)曲線：真空、功率、溫度、厚度（石英晶振選件）實(shí)時(shí)記錄
USB + CSV 導(dǎo)出：實(shí)驗(yàn)報(bào)告直接拷貝
? 5. 選件/升級(jí)
表格
復(fù)制
選件功能
石英晶振膜厚儀分辨率 0.1 nm，閉環(huán)速率控制
基片_biasRF/DC 0-300 V，實(shí)現(xiàn) 濺射清洗/離子輔助
load-lock 小室5 片 3" cassette，不破主真空換樣
橢偏儀端口實(shí)時(shí) n、k、d 監(jiān)測(cè)
OES 端口等離子體發(fā)射監(jiān)測(cè)，反應(yīng)終點(diǎn)判斷
? 6. 應(yīng)用案例
大學(xué)實(shí)驗(yàn)室：
Cu/Al 多層膜電阻率研究
Al?O? 鈍化層 < 5 nm 工藝開發(fā)
創(chuàng)業(yè)試作線：
3" ITO 玻璃 150 nm/□ 20 Ω 小批量
TiN 硬質(zhì)涂層刀具胚片
科研：
