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詳細摘要： 德國CS INSTRUMENTS是一款集成多種功能的創(chuàng)新測量設備。該設備門為現(xiàn)場應用而設計，配有集成式可充電電池以及經(jīng)過驗證和測試的傳輸單元，并配有防震且小巧的...

詳細摘要： SGA91 - CO煙氣分析儀煙氣分析儀方便直觀的零校準方式 背景光便于現(xiàn)場讀數(shù)操作簡單,即時顯示所測氣體濃度方便直觀的零校準方式背光便于現(xiàn)場讀數(shù)型壽命為3年的...

詳細摘要： 高新超高分辨率場發(fā)射掃描電子顯微鏡SU9000也能用來改變物體表面的疏水性，有助于部件和表面的化學改性，經(jīng)過氧化和硬化處理的探針有利于在掃描過程中保持探針的幾何...

詳細摘要： 日立紫外/臭氧清洗設備ZONETEM II無油真空系統(tǒng)（干泵3.8L/min）3min內達到所需真空度清洗系統(tǒng):2種清洗模式真空清洗和真空儲存清洗時間范圍為1m...

詳細摘要： 日立紫外清洗設備真空系統(tǒng):無油真空系統(tǒng)（隔膜泵9L/min）3min內達到所需真空度真空范圍為100-500torr(100步)清洗倉:樣品尺寸: 100mm ...

詳細摘要： 與機械拋光不同，離子研磨系統(tǒng)處理樣品而不會變形或施加機械應力。因此，用于預處理樣品的離子銑削系統(tǒng)的應用范圍不斷擴大，不僅包括掃描電子顯微鏡（SEM），還包括原子...

詳細摘要： 日立離子研磨裝置I混合模式：兩種研磨配置斷面加工：將樣品斷面研磨光滑，便于表面高分辨觀察平面研磨：不同角度有選擇地，大面積，均勻地研磨5 mm的平面，以突顯樣品...

詳細摘要： 日立高新掃描電子顯微鏡主機與供電單元可分離，安裝非常靈活。 近年來，掃描電鏡觀察表面精細結構及元素分析的需求日趨增加，而越來越多的用戶希望能在生產線、品保檢驗線...

詳細摘要： 日立高新場發(fā)射掃描電子顯微鏡　　?利用電子槍轟擊后的高亮度穩(wěn)定期，高分辨觀察和分析兼顧　　?大幅提高分辨率(1.1nm/1kV、0.8nm/15kV)　　?減輕...

詳細摘要： 緊湊型毛細管電泳測序儀日立臺式掃描電鏡標配低真空模式，簡化樣品前處理 采用低真空，不導電樣品也無需噴金，可以直接觀察，大大提高了工作效率。全自動聚焦和亮度對比度...

詳細摘要： 日立白光干涉顯微鏡搭配了符合ISO 25178標準的分析工具 “ISO 25178參數(shù)對比工具"。在ISO 25178標準中規(guī)定了評估表面性狀的32個項目的參數(shù)...

詳細摘要： 日立臺式掃描電鏡標配低真空模式，簡化樣品前處理 采用低真空，不導電樣品也無需噴金，可以直接觀察，大大提高了工作效率。全自動聚焦和亮度對比度調整，只需按幾個按鈕就...

詳細摘要： 日立掃描探針顯微鏡控制器此系列開發(fā)出一種的處理方法，可預測并調整懸臂的振動振幅、動作頻率等主要參數(shù)。其通過對樣品表面的形狀、掃描區(qū)域、使用的懸臂及掃描儀等的綜合...

詳細摘要： 多功能掃描探針顯微鏡系統(tǒng)AFM100 Plus/AFM100系統(tǒng)是以在研發(fā)、生產、教育等各種場合普及AFM應用為目的，并追求操作性、可靠性及高效率觀察的通用型高...

詳細摘要： 這次推出的臺式紫外可見近紅外分光光度計UH5700，融合了日立精密的光柵技術，使用了新研發(fā)的蝕刻衍射光柵，既可測定液體樣品的吸收光譜，也可測定固體樣品的反射和透...

詳細摘要： 日立熒光分布成像系統(tǒng)1. 可以測定樣品的光譜數(shù)據(jù)（反射光、熒光特性）在不同光源條件下（白光和單色光）拍攝樣品圖像，（區(qū)域：Φ20mm、空間分辨率：0.1 mm左...

詳細摘要： 日立火焰原子吸收分光光度計190nm~900nm全譜采用塞曼背景校正技術，可扣除所有背景干擾（包含結構背景）全時雙光束技術，樣品信號和參比信號同時檢測，可獲得穩(wěn)...

詳細摘要： 日立熒光分光光度計F-7100新設“高階光過濾"功能，可在多變量分析三維熒光光譜數(shù)據(jù)時，將不含二階光區(qū)域的數(shù)據(jù)至 Excel 表。與不輸出比激發(fā)光波長要短的波長...

詳細摘要： 日立雙光束紫外可見分光光度計特點:(1)性能---可獲得高精度的數(shù)據(jù)：光源使用長壽命閃爍氙燈光源品質期長達7年*1，降低運行成本雙光束光學系統(tǒng)與單光束光學系統(tǒng)相...

詳細摘要： 日立熒光分光光度計三維時間掃描模式追蹤監(jiān)控化學反應過程顯示出來。增大檢測時間范圍，能夠測定持續(xù)較長時間發(fā)光的磷光?？梢允褂脻舛确秶哌_6個數(shù)量級的數(shù)據(jù)生成校正曲...