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| 晶圓尺寸 | 8英寸 | 尺寸 | 500 mm（寬）x 920 mm（深）x 1501 mm（高） |
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| 反應室尺寸 | φ340mm |
產(chǎn)品簡介
詳細介紹
反應離子刻蝕機
SAMCO RIE-10NR
簡介： RIE-10NR是一種新型的低成本、 高性能、全自動反應離子刻蝕系統(tǒng)， 能夠滿足非腐蝕性氣體化學最KE刻 的工藝要求。 計算機化觸摸屏為工藝配方編 程和存儲提供了用戶友好的界面。 該系統(tǒng)可以實現(xiàn)精確的側壁輪 廓控制和材料之間的高蝕刻選擇性。 憑借其圓滑、緊湊的設計， RIE-10NR只需要很小的潔凈室空間。 應用: 硅、二氧化硅、氮化硅、多晶硅、 砷化鎵、鉬、鉑、聚酰亞胺等材料的 腐蝕失效分析中的選擇性層腐蝕。 |  |
主要功能和優(yōu)點：
1、加工至?220 mm（?3“x 5，?4"x 3，?8"x 1）。
2、高選擇性各向異性蝕刻滿足嚴格的工藝要求全自動“一鍵式"操作。
3、自動壓力控制，允許獨立于氣流干泵和系統(tǒng)布局的過程壓力精確控制，便于維護。
4、于Windows的用戶界面，豐富的配方和內(nèi)置的數(shù)據(jù)記錄功能，是一個可靠和持久的系統(tǒng)，全球安裝了400多個系統(tǒng)。
主要參數(shù)規(guī)格： | |
基板 | 220 mm（?3“x 5，?4"x 3，?8"x 1） |
負載 | 開放式 |
上下電極 | ?240 mm |
射頻功率 | 300瓦@13.56兆赫，自動匹配（500瓦為選項） 可切換射頻供電電極（陽極/陰極模式）為選項 |
氣體管道 | 內(nèi)部2條MFC控制的氣體管道（最多6條） |
泵 | 干泵（500升/分鐘） |
操作系統(tǒng) | 觸摸屏操作（可選擇基于Windows的用戶界面）、配方管理 |
端點檢測 | 光學發(fā)射光譜（OES）作為一種選擇 |
尺寸 | 500 mm（寬）x 920 mm（深）x 1501 mm（高） |
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