作為雙光子無掩模光刻技術(shù)的先驅(qū)，其 Quantum X 系列無掩膜激光直寫設(shè)備搭載專_利雙光子灰度光刻技術(shù)，最小特征尺寸可達(dá) 160nm，表面粗糙度≤10nm。其中 Quantum X align 系統(tǒng)具備納米級(jí)對(duì)準(zhǔn)精度，可在光纖、芯片及晶圓上制造高分辨率三維結(jié)構(gòu)，能精準(zhǔn)加工超構(gòu)表面的自由曲面等復(fù)雜結(jié)構(gòu)，納糯三維Nanoscribe作為其中國(guó)全資子公司，負(fù)責(zé)該系列設(shè)備的推廣和本土化服務(wù)。
技術(shù)特點(diǎn)： 專注于雙光子聚合(TPP)3D光刻技術(shù)，其 Photonic Professional GT 系列是行業(yè)標(biāo)_桿。
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