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首頁>>北京韞茂科技有限公司>>產(chǎn)品展示>>半導體行業(yè)專用儀器

  • 粉末原子層沉積設備 參考價：面議

    粉體包覆（Atomic layer deposition)是通過將氣相前驅(qū)體脈沖交替地通入反應腔體內(nèi)并在沉積基體上化學吸附并反應而形成沉積膜的一種技術，具有自限...
    型號： GM100/100... 廠商性質(zhì)：生產(chǎn)商所在地：廈門市 對比
    粉末式原子層沉積粉末原子層沉積PALD原子層沉積系統(tǒng)原子層沉積
    2025/5/8 14:37:352328

  • 雙腔體高真空等離子體原子層沉積系統(tǒng) 參考價：面議

    雙腔體高真空等離子體原子層沉積系統(tǒng)是通過將氣相前驅(qū)體脈沖交替地通入反應腔體內(nèi)并在沉積基體上化學吸附并反應而形成沉積膜的一種技術，具有自限性和自飽和。原子層沉積技...
    型號： QBT-T 廠商性質(zhì)：生產(chǎn)商所在地：廈門市 對比
    原子層沉積系統(tǒng)雙腔型等離子增強等離子體增強原子層雙腔體等離子體原子層
    2025/5/8 14:35:422077

  • PALD廠家 參考價：面議

    桌面式原子層沉積系統(tǒng)PALD廠家（Atomic layer deposition)是通過將氣相前驅(qū)體脈沖交替地通入反應腔體內(nèi)并在沉積基體上化學吸附并反應而形成沉...
    型號： Mini Desk... 廠商性質(zhì)：生產(chǎn)商所在地：廈門市 對比
    ALD原子層沉積系統(tǒng)超小型平片原子層沉積原子層沉積ALD桌面型原子層沉積系統(tǒng)原子層沉積PALD設備
    2025/5/8 14:19:151422

  • 粉末ALD廠家 參考價：面議

    粉末ALD廠家（Atomic layer deposition)是通過將氣相前驅(qū)體脈沖交替地通入反應腔體內(nèi)并在沉積基體上化學吸附并反應而形成沉積膜的一種技術，具...
    型號： GM10/100/... 廠商性質(zhì)：生產(chǎn)商所在地：廈門市 對比
    粉末式原子層沉積粉末原子層沉積PALD原子層沉積系統(tǒng)原子層沉積
    2025/5/8 14:15:372179

  • 雙腔體高真空等離子體原子層沉積系統(tǒng) 參考價：面議

    雙腔室高真空等離子體ALD設備是對ALD技術的擴展，通過等離子體的引入，產(chǎn)生大量活性自由基，增強了前驅(qū)體物質(zhì)的反應活性，從而拓展了ALD對前驅(qū)源的選擇范圍和應用...
    型號： QBT-A 廠商性質(zhì)：生產(chǎn)商所在地：廈門市 對比
    真空等離子體等離子體ALD系統(tǒng)ALD系統(tǒng)雙腔型等離子系統(tǒng)ALD設備
    2025/5/8 14:13:403433

  • ALD 參考價：面議

    桌面式原子層沉積系統(tǒng)ALD（Atomic layer deposition)是通過將氣相前驅(qū)體脈沖交替地通入反應腔體內(nèi)并在沉積基體上化學吸附并反應而形成沉積膜的...
    型號： Mini Desk... 廠商性質(zhì)：生產(chǎn)商所在地：廈門市 對比
    ALD原子層沉積系統(tǒng)超小型平片原子層沉積原子層沉積ALD桌面型原子層沉積系統(tǒng)
    2025/5/8 14:11:592171

  • 原子層沉積設備廠家 參考價：面議

    原子層沉積設備廠家（Atomic layer deposition)是通過將氣相前驅(qū)體脈沖交替地通入反應腔體內(nèi)并在沉積基體上化學吸附并反應而形成沉積膜的一種技術...
    型號： GM10/100/... 廠商性質(zhì)：生產(chǎn)商所在地：廈門市 對比
    粉末式原子層沉積粉末原子層沉積PALD原子層沉積系統(tǒng)原子層沉積
    2025/5/8 14:10:052997

  • 原子層沉積系統(tǒng)廠家 參考價：面議

    原子層沉積系統(tǒng)廠家（Atomic layer deposition)是通過將氣相前驅(qū)體脈沖交替地通入反應腔體內(nèi)并在沉積基體上化學吸附并反應而形成沉積膜的一種技術...
    型號： Mini Desk... 廠商性質(zhì)：生產(chǎn)商所在地：廈門市 對比
    ALD原子層沉積系統(tǒng)超小型平片原子層沉積原子層沉積ALD桌面型原子層沉積系統(tǒng)
    2025/5/8 14:07:501343

  • 桌面式原子層沉積系統(tǒng) 參考價：面議

    桌面式原子層沉積系統(tǒng)ALD（Atomic layer deposition)是通過將氣相前驅(qū)體脈沖交替地通入反應腔體內(nèi)并在沉積基體上化學吸附并反應而形成沉積膜的...
    型號： Mini Desk... 廠商性質(zhì)：生產(chǎn)商所在地：廈門市 對比
    ALD原子層沉積系統(tǒng)超小型平片原子層沉積原子層沉積ALD桌面型原子層沉積系統(tǒng)
    2025/5/8 14:05:302991

  • 粉末原子層沉積 參考價：面議

    粉末原子層沉積（Atomic layer deposition)是通過將氣相前驅(qū)體脈沖交替地通入反應腔體內(nèi)并在沉積基體上化學吸附并反應而形成沉積膜的一種技術，具...
    型號： GM10/100/... 廠商性質(zhì)：生產(chǎn)商所在地：廈門市 對比
    粉末式原子層沉積粉末原子層沉積PALD原子層沉積系統(tǒng)原子層沉積
    2025/5/8 14:03:561231

  • 等離子體原子層沉積 參考價：面議

    雙腔體等離子體原子層沉積系統(tǒng)是通過將氣相前驅(qū)體脈沖交替地通入反應腔體內(nèi)并在沉積基體上化學吸附并反應而形成沉積膜的一種技術，具有自限性和自飽和。原子層沉積技術主要...
    型號： QBT-T 廠商性質(zhì)：生產(chǎn)商所在地：廈門市 對比
    原子層沉積系統(tǒng)雙腔型等離子增強等離子體增強原子層雙腔體等離子體原子層
    2025/5/8 14:02:02998
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