磨拋機(jī)金相試樣拋光機(jī)：

GYMP-2型金相試樣磨拋機(jī)是面向材料檢測(cè)、科研教學(xué)與工業(yè)質(zhì)量控制的雙盤(pán)臺(tái)式制樣設(shè)備，

以雙盤(pán)獨(dú)立控制、調(diào)速精準(zhǔn)靈活、運(yùn)行穩(wěn)定可靠為核心優(yōu)勢(shì)，可高效完成金屬、合金

、陶瓷等各類(lèi)試樣的粗磨、精磨、粗拋至精拋全流程制備，為金相顯微觀測(cè)、硬度測(cè)試、

成分分析提供高質(zhì)量試樣，滿(mǎn)足實(shí)驗(yàn)室標(biāo)準(zhǔn)化、高效率、高重復(fù)性的制樣需求。

設(shè)備采用雙盤(pán)獨(dú)立驅(qū)動(dòng)設(shè)計(jì)，兩個(gè)磨拋盤(pán)可分別設(shè)置轉(zhuǎn)速與轉(zhuǎn)向，支持研磨與拋光同步作業(yè)

，大幅提升批量制樣效率。標(biāo)配φ230mm磨拋盤(pán)，兼容多種規(guī)格砂紙與拋光織物，更換便捷，

可一站式完成多道制樣工序，無(wú)需頻繁轉(zhuǎn)接試樣。轉(zhuǎn)速調(diào)節(jié)兼顧靈活性與便捷性，支持100–1400r/min無(wú)級(jí)調(diào)速，

同時(shí)配備300r/min、600r/min、900r/min、1400r/min四級(jí)常用定速，一鍵切換即可適配不同材料與工藝要求，正反轉(zhuǎn)功能可滿(mǎn)足特殊材料制樣需求。

機(jī)身采用ABS環(huán)保材料一體成形，搭配穩(wěn)固支撐底盤(pán)，運(yùn)行平穩(wěn)、振動(dòng)小、

噪音低，主軸采用防漏設(shè)計(jì)，有效保護(hù)軸承，延長(zhǎng)設(shè)備使用壽命。設(shè)備配備水冷噴淋系統(tǒng)與集污盤(pán)清洗功能，

磨拋過(guò)程中持續(xù)對(duì)試樣冷卻，避免過(guò)熱導(dǎo)致金相組織改變，同時(shí)及時(shí)沖走磨屑，防止磨削物累積沉淀，

保持盤(pán)面潔凈，減少劃痕、變形層等缺陷，提升制樣合格率。外形尺寸緊湊，適配各類(lèi)實(shí)驗(yàn)室臺(tái)面，

安裝與維護(hù)簡(jiǎn)便，日常清潔便捷，適配長(zhǎng)期高頻使用。

GYMP-2型以穩(wěn)定可靠與高實(shí)用性為突出特點(diǎn)，單片機(jī)控制系統(tǒng)確保參數(shù)精準(zhǔn)穩(wěn)定，操作人員可快速上手，

相同參數(shù)下制樣效果一致性高，有效降低人工操作誤差。相較于傳統(tǒng)手動(dòng)制樣，

設(shè)備可顯著提升制樣效率，降低勞動(dòng)強(qiáng)度，制樣質(zhì)量更穩(wěn)定可控，廣泛應(yīng)用于高?？蒲?、第三方檢測(cè)、金屬加工、汽車(chē)零部件、電子材料等領(lǐng)域。

憑借雙盤(pán)雙控的靈活設(shè)計(jì)、精準(zhǔn)的調(diào)速控制、完善的冷卻防護(hù)與穩(wěn)定的運(yùn)行性能，

GYMP-2型成為金相制樣的優(yōu)選設(shè)備，助力材料檢測(cè)與質(zhì)量控制規(guī)范化、高效化開(kāi)展，為科研分析與工業(yè)質(zhì)控提供可靠支撐。

磨拋機(jī)金相試樣拋光機(jī)