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ULVAC/日本愛發(fā)科 濺射設(shè)備型號ENTRON-EXX濺射設(shè)備型號：ENTRON-EXX它是一種多室濺射設(shè)備，用于生產(chǎn)各種器件，包括的半導(dǎo)體邏輯、存儲器（DR...

ULVAC/日本愛發(fā)科 濺射設(shè)備 型號：SME濺射設(shè)備型號：SME根據(jù)芯形可靈活配備1至7室的工藝室，是滿足光器件、裝配、MEMS/電子元件、功率器件、通信器件...

ULVAC/日本愛發(fā)科濺射設(shè)備 型號：SMV濺射設(shè)備型號：SMV它是一種用于PLP安裝種子層（Ti/Cu）形成的濺射裝置，性價(jià)比高。

ULVAC/日本愛發(fā)科 熔煉爐 型號：FVI熔煉爐型號：FVI它是一種熔煉爐，為特種鋼、電子材料和新材料等廣泛的行業(yè)做出了貢獻(xiàn)。

ULVAC/日本愛發(fā)科濺射設(shè)備 型號SIV、SCV濺射設(shè)備型號：SIV、SCV這些裝置適用于多種材料的沉積，可以處理多種基板。使用ULVAC的運(yùn)輸系統(tǒng)提供了高的...

ULVAC/日本愛發(fā)科濺射設(shè)備 型號SIH、SCH濺射設(shè)備型號：SIH、SCH這些設(shè)備適用于多種材料的沉積，可以容納各種基材。 ULVAC的運(yùn)輸系統(tǒng)具有出色的性...

ULVAC/日本愛發(fā)科濺射設(shè)備 型號：SV濺射設(shè)備型號：SV它是一種立式批量式滾筒噴射設(shè)備，可以處理大量的基板。 作為簡單易用的通用型號，它滿足了廣泛的需求

ULVAC/日本愛發(fā)科 濺射設(shè)備 型號：貼片濺射設(shè)備型號：貼片這是Model：SMD的多室濺射設(shè)備，總共售出了1400多臺。 主要用于高清顯示應(yīng)用，可沉積金屬膜...

ULVAC/日本愛發(fā)科 PE-CVD設(shè)備uGmni-200CPE-CVD設(shè)備型號：uGmni-200C該設(shè)備在 uGmni 的標(biāo)準(zhǔn)內(nèi)核中配備了 PE-CVD 模...

ULVAC/日本愛發(fā)科組合工藝設(shè)備 型號LX-200組合工藝設(shè)備型號：LX-200這是一種能夠?qū)Χ坞姵氐母鞣N材料進(jìn)行鋰沉積和濺射的沉積設(shè)備。它可以在開發(fā)現(xiàn)場使...

ULVAC/日本愛發(fā)科PE-CVD裝置 ModelCMEPE-CVD設(shè)備型號：CME這是一種用于批量生產(chǎn)的PE-CVD設(shè)備，非常適合硅基絕緣膜和阻隔膜的沉積。 ...

ULVAC/日本愛發(fā)科沉積設(shè)備型號EVD-600LPP沉積設(shè)備型號：ei-5、EVD-600LP批量沉積設(shè)備有用于研發(fā)和小批量生產(chǎn)的通用型號：ei-5，以及用于...

ULVAC/日本愛發(fā)科沉積設(shè)備 型號：EWE沉積設(shè)備型號：EWE它是一種卷繞沉積裝置，使用電阻加熱方法將金屬沉積在塑料薄膜上。

ULVAC/日本愛發(fā)科沉積設(shè)備 型號：EWA沉積設(shè)備型號：EWA這是一種風(fēng)式沉積設(shè)備，采用高頻感應(yīng)加熱方式，將金屬和氧化物沉積在塑料薄膜、紙張、金屬箔等上。

ULVAC/日本愛發(fā)科灰化設(shè)備NA我們以環(huán)保（無溶液）和高生產(chǎn)率的方式提供電子和半導(dǎo)體器件制造過程中不可少的抗蝕劑去除技術(shù)。型號：NA灰化設(shè)備，提供兩種類型的晶...

ULVAC/日本愛發(fā)科熔煉爐型號Magcaster/FMI熔煉爐型號：Magcaster/FMI這是一種通過感應(yīng)加熱真空熔化功能性金屬材料并采用帶狀鑄造方法將薄...

ULVAC/日本愛發(fā)科干法蝕刻設(shè)備uGmni200E干法蝕刻設(shè)備型號：uGmni-200E它是一種干蝕刻設(shè)備，可以從一個(gè)腔室到多個(gè)腔室使用，并且具有可擴(kuò)展性，強(qiáng)...

ULVAC/日本愛發(fā)科干法蝕刻設(shè)備型號NE-550EX干法蝕刻設(shè)備型號：NE-550EX它是一種采用磁場ICP（ISM：ICP與靜磁場）方法的干法蝕刻設(shè)備，采用...

ULVAC/日本愛發(fā)科離子注入器 型號：SOPHI離子注入器型號：SOPHI這是一款在功率器件和IGBT領(lǐng)域占有率最高的中電流離子注入設(shè)備。

ULVAC/日本愛發(fā)科離子注入器 型號：IH離子注入器型號：IH這是一種用于高溫和室溫的功率器件和SiC器件的高能離子注入設(shè)備。