Atomfab ALD原子層沉積系統(tǒng) 參考價：面議
Atomfab ALD原子層沉積系統(tǒng)為GaN功率器件和射頻器件提供快速、低損傷、低運營維護(hù)成本的等離子體原子層沉積（ALD）加工。
PlasmaPro ASP ALD原子層沉積系統(tǒng) 參考價：面議
PlasmaPro ASP ALD原子層沉積系統(tǒng)基于經(jīng)過生產(chǎn)驗證的企業(yè)/專業(yè)研發(fā)平臺，旨在形成可集成到器件中的優(yōu)質(zhì)薄膜。它足夠靈活，可以進(jìn)行多種化學(xué)反應(yīng)，并可實...
FlexAL ALD原子層沉積系統(tǒng) 參考價：面議
FlexAL ALD原子層沉積系統(tǒng)可提供遠(yuǎn)程等離子體原子層沉積（ALD），這為納米結(jié)構(gòu)和器件的工程設(shè)計提供了一系列新的靈活性和可行性。
PlasmaPro 100 Cobra感應(yīng)耦合等離子刻蝕 參考價：面議
PlasmaPro 100 Cobra感應(yīng)耦合等離子刻蝕是英國牛津儀器公司推出的一款高性能、高靈活性的電感耦合等離子體刻蝕系統(tǒng)。它主要服務(wù)于優(yōu)良半導(dǎo)體、微機(jī)電系...(空格分隔,最多3個,單個標(biāo)簽最多10個字符)
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