Phoenix ALD原子層沉積系統(tǒng)設(shè)計(jì)旨在實(shí)現(xiàn)高通量和最大運(yùn)行時(shí)間，適用于從試點(diǎn)生產(chǎn)到工業(yè)級(jí)制造的任何制造環(huán)境。技術(shù)人員和研究人員依賴Phoenix®進(jìn)行可重復(fù)且高精度的薄膜沉積，無(wú)論是平面基底還是三維基底。Phoenix®支持多達(dá)六條獨(dú)立前驅(qū)體線，根據(jù)您的薄膜需求提供固體、液體或氣態(tài)工藝化學(xué)。緊湊的布局和創(chuàng)新的設(shè)計(jì)使鳳凰®成為批量生產(chǎn)ALD需求的實(shí)用選擇。

Phoenix ALD原子層沉積系統(tǒng)主要特點(diǎn)包括：                            

對(duì)過(guò)程參數(shù)（包括溫度、流量和壓力）進(jìn)行精確的軟件控制，即使是最敏感的基材也能實(shí)現(xiàn)無(wú)缺陷涂層

ALD防護(hù)層™蒸汽陷阱，防止沉積物堆積，并減少過(guò)量工藝氣體排放到環(huán)境中

大型工藝腔體可接受GEN 2.5基板、多片晶圓盒及較大型三維物體

擁有成本低，啟動(dòng)和運(yùn)營(yíng)成本極低                      

緊湊的占地面積，節(jié)省寶貴的潔凈室空間                                              

標(biāo)準(zhǔn)配方和ALD材料隨手可得

來(lái)自全球技術(shù)團(tuán)隊(duì)和博士科學(xué)家的全面支持與服務(wù)

符合CE、FCC和CSA標(biāo)準(zhǔn)，內(nèi)置多項(xiàng)安全功能