目錄:華兆科技(廣州)有限公司>>半導(dǎo)體設(shè)備>>原子層沉積設(shè)備ALD>> Fiji ALD原子層沉積系統(tǒng)
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Fiji ALD原子層沉積系統(tǒng)是一種模塊化、高真空熱原子層沉積系統(tǒng),采用靈活的架構(gòu)和多種前驅(qū)體和等離子體氣體配置,可適應(yīng)各種沉積模式。Fiji ALD是下一代 ALD 系統(tǒng),能夠執(zhí)行熱成像和等離子體增強(qiáng)沉積。
我們應(yīng)用了的計算流體力學(xué)分析,優(yōu)化Fiji ALD反應(yīng)堆、加熱器和陷阱幾何結(jié)構(gòu)。系統(tǒng)的直觀界面使得監(jiān)控和根據(jù)需要更改配方和流程變得輕松。
Fiji ALD原子層沉積系統(tǒng)的功能包括:
專有腔室渦輪泵系統(tǒng)
改進(jìn)等離子體設(shè)計
人體工學(xué)界面
原位橢偏度
原位石英晶體微觀天平
綜合臭氧
手套箱接口
Fiji ALD提供最多六條前驅(qū)體管線,可容納固體、液體或氣體前驅(qū)體,以及六條等離子體氣體管線,在緊湊且經(jīng)濟(jì)的占地內(nèi)提供顯著的實驗靈活性。
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