無掩膜光刻機(jī) 參考價(jià)：面議
無掩膜光刻機(jī)_UVD：緊湊型桌面無掩膜光刻系統(tǒng)，采用數(shù)字微鏡技術(shù)進(jìn)行高速無掩膜圖形生成，可實(shí)現(xiàn)最高0.5μm的最小特征尺寸。配備高精度實(shí)時(shí)對(duì)焦與視覺對(duì)位套刻技術(shù)...
數(shù)字投影無掩膜光刻系統(tǒng)_UVD 參考價(jià)：面議
無掩膜光刻機(jī),數(shù)字投影無掩膜光刻系統(tǒng)_UVD：緊湊型桌面無掩膜光刻系統(tǒng)，采用數(shù)字微鏡技術(shù)進(jìn)行高速無掩膜圖形生成，可實(shí)現(xiàn)最高0.5μm的最小特征尺寸。配備高精度實(shí)...(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
會(huì)員.png)
2