目錄:杭州玉之泉精密儀器有限公司>>三維激光直寫光刻系統(tǒng)>> 雙光子三維激光直寫光刻系統(tǒng)_MPD
| 產地類別 | 國產 | 應用領域 | 綜合 |
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雙光子三維激光直寫光刻系統(tǒng)_MPD：真三維無掩膜光刻，可實現高自由度納米級三維結構制造，最小特征尺寸可達50nm。為多個領域的研究發(fā)展提供優(yōu)良的高精度、三維制造解決方案，應用領域包含但不限于微納光學器件、微/納流控芯片、片上光互聯、微機械等。
雙光子三維激光直寫光刻系統(tǒng)_MPD：
| 系統(tǒng)參數 | MPD-100子系列 | MPD-1000子系列 | MPD-2000子系列 | |
| 橫向最小特征尺寸(nm) | XY≤80 | XY≤80 | XY≤50 | |
| 橫向最小周期/分辨率(nm) | XY≤300 | XY≤300 | XY≤200 | |
| 拼接精度(nm) | ≤ 200 | |||
| 最高表面粗糙度(nm) | ≤5 | |||
| 注：以上值僅為各參數的典型范圍，非極限值。例：最小特征尺寸xy≤80nm，實際能達到的最小特征尺寸在80nm以下。 | ||||
| 特色功能與配置（×-標準機不含，√-標準機配置，○-可增配） | MPD-100子系列 | MPD-1000子系列 | MPD-2000子系列 | |
| 高精度尋焦 | 精度≤25nm，兼容硅、玻璃、藍寶石等透明/不透明襯底 | √ | √ | √ |
| 焦斑/像差調控 | × | ○ | √ | |
| 3D共聚焦 | × | ○ | ○ | |
| 三維對準 | × | ○ | ○ | |
| 多參量預覽 | √ | √ | √ | |
| 腳本功能 | √ | √ | √ | |
| 智能策略 | 1.輪廓/殼層-填充； | √ | √ | √ |
| 夾具/襯底 | 1.包括但不限于金屬、玻璃（石英）、藍寶石、硅片等 | √ | √ | √ |
| 焦面監(jiān)控 | √ | √ | √ | |
| 能量監(jiān)控 | √ | √ | √ | |
| 輔助功能 | 錨點、測量、標記、傾斜補償、旋轉等 | √ | √ | √ |
| 光刻膠/材料 | 1.自研雙光子光刻膠，HBP、PPI-Dip，HBO-2等 | √ | √ | √ |
| 擴展功能1：自動注膠 | ○ | ○ | ○ | |
| 擴展功能2：熒光共聚焦 | × | ○ | ○ | |
| 擴展功能3：多通道擴展 | ○ | √ | √ | |
| 硬件配置信息（×-標準機不含，√-標準機配置，○-可增配） | MPD-100子系列 | MPD-1000子系列 | MPD-2000子系列 | |
| 聚焦系統(tǒng) | 標配：綜合倍率66倍，NA 1.42。（其他倍率及需求可定制） | |||
| 飛秒激光器 | 中心波長：515nm/780nm（可選配） | |||
| 位移臺 | XYZ行程：100mm×100mm×25mm | |||
| 高精度Z軸 | 行程：75μm；精度：≤10nm | |||
| 溫控系統(tǒng) | ○ | 環(huán)境溫度控制系統(tǒng)，精度±0.1℃ (溫度基準值和外部實驗室相同，外部實驗室需保證溫度穩(wěn)定性優(yōu)于±1℃) | ||
| 隔振系統(tǒng) | ○ | 配置多級主動/被動隔振系統(tǒng) | ||
| 安裝條件（以下為推薦條件，更詳細參數可與廠家溝通） | MPD-100子系列 | MPD-1000子系列 | MPD-2000子系列 | |
| 電氣條件 | 供電條件 | 供電線6平方，220V，50Hz,16A | ||
| 峰值功率/運行功率 | 4kW/1kW | 8kW/4kW | ||
| 環(huán)境條件 | 黃光燈，萬級及以上潔凈間，隔振等級優(yōu)先于VC-C，實驗室常溫，推薦21-23℃ | |||
| 壓縮空氣 | 非必須，僅針對主動隔振和吸附臺夾具 | |||
| 推薦使用面積 | 2m×2m | |||
| 外形尺寸 | 設備主體(mm，寬×深×高) | 785×940×720 | 1300×1300×2200（不含恒溫模組1900） | |
| 機柜(mm，寬×深×高) | 620×800×1600 | 620×800×1600 | ||
| 總重量（kg） | ＜600 | ＜1200 | ||
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